展覽海報
展覽時間：2021-09-03 - 2021-09-22
開幕時間：2021-09-04 15:00
展覽城市：上海 - 上海
展覽機構：虹橋當代藝術館
展覽地址：長寧仙霞路650號
主辦單位：上海市對外文化交流協會 上海虹橋當代藝術館
承辦單位：上海虹橋半島版畫藝術中心
展覽備注：展覽支持：紐約哥倫比亞大學 雷若·尼曼版畫中心（美國）、穎畫廊 （中國）
參展藝術家名單：Gregory Amenoff（格雷戈里·阿門諾夫）[美國]、Nathen Catlin (內森·卡特林) [美國]、Predrag Dimitrijevi? (普雷德拉格·迪米特里耶維奇) [塞爾維亞]、Carl Fudge (卡爾·福吉) [英國]、宮山廣明（Miyayama Hiroaki ）[日本]、何為民（HE Weimin）[中國]、盧治平 (LU Zhiping) [中國]、Ingrid Ledent（英格里德·勒登特）[比利時]、Fred HC Liang (梁漢昌） [美國]、Peter Wayne Lewis (彼得·韋恩·劉易斯) [牙買加]、鈴木隆太（Ryuta Suzuki）[日本]、Jennifer Nuss (詹妮弗·納斯) [美國]、Brian Novatny（布賴恩·諾瓦特尼） [美國]、Simonette Quamina (西蒙妮特·夸米納) [加拿大]、Kiki Smith（奇奇·史密斯）[美國]、Dasha Shishkin (達沙·希什金) [俄羅斯]、Luis Silva（路易斯·席爾瓦）[美國]、Vicky Tomayko（維奇·托梅科）[美國]、Tomas Vu-Daniel（托馬斯·武·丹尼爾）[越南]、楊鋒 (YANG Feng) [中國]、袁佐（YUAN Zuo）[中國]、遠藤龍太（Ryuta Endo）[日本]、張遠帆 (ZHANG Yuanfan) [中國]、周小平 (ZHOU Xiaoping) [中國]、Craig Zammiello (克雷格·扎米洛) [美國]、Malgorzata Zurakowska（馬爾戈薩塔·祖拉科夫斯卡）[波蘭]、趙永泉 (ZHAO Yongquan) [中國]、章愳 (ZHANG Ju) [中國]
展覽介紹
版畫由于自身的重復性和復制性，在近現代世界藝術史中發揮了極大媒介推動力。其獨特的創作與生產方式，使版畫在文藝復興后成為了世界范圍內的新的思考和生產方式。世界范圍內的藝術家也在不斷地探索并更新與版畫創作有關的技法和表現方式，為版畫這一獨特媒介帶來更多的可能性。
在全球性的多元文化融合的背景下，地緣邊界與時間在對于全球藝術生產的影響被急劇弱化，中西方以版畫為主要創作媒介的藝術家們也在不同的物理空間、地理環境和時區交錯中，主動思考并彼此互相回應著來自不同地區的關切；如同多面鏡般彼此反射并相互連結，共同進行著全球范圍內的藝術生產。作為擁有相似創作方式的特殊媒介，版畫的媒介特征影響著在這一媒介之下的思考方法；從這點上來看，版畫恰恰成為了不同文化語境下的一種共通共享的視覺語言。一如紐約現代藝術博物館(MoMA)版畫部學術策展人Sarah Suzuki所說的——版畫在當代正經歷著某種隱秘的文藝復興，它找到了自身的方法，影射并參與進入當代藝術更廣大范圍的活動。
值得注意的是，由于版畫相似的制作方式，此次展覽也希望將來自世界范圍內的不同創作背景的藝術家們，以其各自背后的版畫工作室為集結，就創作與生產方式這一話題展開討論。旨在討論版畫的具體創作與生產過程中的新技法與新的傾向。希望這一討論形成的合力，能夠為版畫這一古老媒介在當代的變形和演進提出更多的可能性，使其能被更廣泛的參考和觀看，更積極地面對當代藝術媒介融合的趨勢。這也呼應了Sarah Suzuki在《版畫人：當代版畫的簡要分類》(Print People: A Brief Taxonomy of Contemporary Printmaking) 中提到的：出版商、版畫家、造紙商、畫廊主、學者、策展人等角色所共同構建的，版畫的世界。
策展人
方小龍博士
在此次上海虹橋當代藝術館舉辦的《多面鏡——2021國際版畫展》展覽中，來自世界各地的版畫家們以不同的背景和版畫技術推進版畫語言的運用和傳承。盡管版畫是唯一的材料媒介，但他們共同維護版畫傳統實踐的同時，也積極參與當代藝術的敘事進程。
本次參展的大部分藝術都認為自己首先是一個藝術家，而不是傳統意義上的版畫家。除了版畫制作方法的多樣性，這些藝術家的背景也代表了不同文化土壤和技術方法的多樣性。從地理上講，這些藝術家有來自波蘭、塞爾維亞、英國、俄羅斯等歐洲國家，有來自中國、越南和日本等亞洲國家，以及美國、加拿大和加勒比地區等北美國家。從藝術上講，一部分藝術家采用了廣泛的版畫技術，從傳統的蝕刻，到銅版，到凹版，再到木刻；而另一部分則通過模糊版畫與印刷品類的界限對傳統的版畫模式提出挑戰。這些作品并不都展示炫麗的視覺效果或體現制作者精妙的手藝，它們同樣揭示了一種當代視覺話語所能產生的動態及多元性。如果我用一句話來概括這個展覽，那就是這些版畫作品用內在產生的聯動性，照亮了我們所生活的世界。
《多面鏡——2021國際版畫展》參展的藝術家對于版畫功能性和材料性的探索對于當代藝術是十分有意義的。隨著對數字技術的日益依賴，許多當代藝術家逐漸接受了對于觸覺體驗的新奇感，而其他藝術家則青睞攝影和數字化所帶來的更多可能性。《多面鏡——2021國際版畫展》中的版畫作品，不僅具有形式上的多樣性和深刻的觀念，而且就像在過去幾個世紀中那樣，將版畫中的藝術創造和精神在未來繼續發揮作用。
聯合策展人
Fred HC Liang（美）
美國麻省藝術與設計學院版畫系教授